水系統(tǒng)設(shè)備
多效蒸餾水機(jī)設(shè)備
純蒸汽發(fā)生器
貯存分配系統(tǒng)
在線清洗系統(tǒng)
配料系統(tǒng)生物制品用罐設(shè)備
純水設(shè)備要求:
水質(zhì)符合中國藥典標(biāo)準(zhǔn)和FDA中各項(xiàng)規(guī)定;
設(shè)備全自動運(yùn)行和有條件的全自動處理程序(如反沖洗、再生、酸洗、消毒程序);
單體和管道設(shè)備符合GMP的要求(如后端處理設(shè)備殺菌器、膜濾、終端水箱、管路均采用316L材料,預(yù)處理設(shè)備的管路采用SUS304材料)。
純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn):
電導(dǎo)率≤0.5μs/cm
TOC≤200ppb
微生物≤20cfu/ml
電子、醫(yī)藥、食品等工業(yè)中純水;輕紡、化工用水的凈化和制備;食品飲料用水、釀酒工藝用水的凈化與制備;工業(yè)生產(chǎn)中對水溶液進(jìn)行有用物質(zhì)和濃縮與回收;電廠等企業(yè)高壓鍋爐補(bǔ)給水的預(yù)脫鹽處理;苦咸水和海水的脫鹽淡化;作為高純水生產(chǎn)的一級除鹽設(shè)備。
EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使用,組成預(yù)處理、反滲透、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交貨設(shè)備。EDI裝置進(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ.cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生產(chǎn)電阻率高達(dá)15MΩ.cm以上的超純水。
生產(chǎn)能力:
標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備型號表顯示的是在純蒸汽壓力為3bar,工業(yè)蒸汽為6bar的情況下的設(shè)備生產(chǎn)能力,單位是公斤/小時。如果要獲得某種型號設(shè)備的實(shí)際生產(chǎn)能力,則必須根據(jù)實(shí)際工作壓力,在標(biāo)定生產(chǎn)能力上乘上一個轉(zhuǎn)換系數(shù)。
公用工程需求:
不含雜質(zhì)和腐蝕性物質(zhì)的工業(yè)飽和蒸汽;最大壓力為9bar進(jìn)料水要求為去離子水、無硅石、氯、胺、揮發(fā)性物質(zhì)等,壓力要求為1-2bar
供電標(biāo)準(zhǔn):根據(jù)客戶要求。
干燥、無油、干凈的壓縮空氣,最小壓力要求為6bar
根據(jù)客戶現(xiàn)場實(shí)際需求及消毒的要求定制設(shè)計,以GMP、ISPE工程指南和FDA的規(guī)范為設(shè)計理念基礎(chǔ),框架結(jié)構(gòu),節(jié)省空間,即插即用,安裝方便,在制造工廠進(jìn)行預(yù)安裝與運(yùn)行確認(rèn),所有管道為316L不銹鋼、無死角、衛(wèi)生型卡盤連接方式所有產(chǎn)品接觸的表面,粗糙度(Ra)小于0.6μm,回路中沒有中間貯罐,避免細(xì)菌滋生,符合FDA要求。
CIP清洗裝置即可作為不分解生產(chǎn)設(shè)備,又可用于手動操作、自動操作的清洗系統(tǒng),幾乎被引進(jìn)到所有的食品,飲料及制藥等工廠。CIP清洗裝置不僅能清洗機(jī)器,而且還能控制微生物的清洗方法。
CIP清洗裝置其有以下的優(yōu)點(diǎn):
能使生產(chǎn)計劃合理化及提高生產(chǎn)能力。
與手洗相比較,不但沒有因作業(yè)者之差異而影響清洗效果,還能提高其產(chǎn)品質(zhì)量
能防止清洗作業(yè)中的危險,節(jié)省勞動力
可節(jié)省清洗劑、蒸汽、水及生產(chǎn)成本
能增加機(jī)器部件的使用年限
CIP清洗裝置分手動,半自動及全自動三種供用戶選擇
? Highfine all rights reserved. 南通海發(fā)智能科技有限公司 版權(quán)所有
蘇ICP備2023008038號-2